半导体工艺进入7nm后，EUV光刻机成为军事战略家必备的工具，全世界只有ASML可以生产，单价为10亿元人民币。但是，在EUV技术中，ASML不一定是第一，而且专利数量少于三星。韩国媒体报道说，近年来，韩国公司和科研机构在EUV光刻技术上投入了大量资金，而专利技术正在缩小与外国公司的差距。据报道，在2011年至2020年的专利申请中，提交给韩国知识产权局（KIPO）的EUV光刻相关专利申请的数量达到了88件的峰值，2018年达到55件，2019年达到50件其中，2019年国内公司在中部和韩国提出了40项EUV专利申请，超过了10项外国专利申请。这是韩国提交的EUV专利首次超过外国公司。到2020年中期，韩国公司提交的EUV专利申请的外国专利申请数量增加了一倍以上，其中三星是最多的。今年，该公司已开始使用5nm EUV工艺生产手机处理器。从全球角度来看，TOP6制造商申请了59％的EUV专利，其中卡尔·蔡司占18％（毕竟，光学物镜是EUV的核心），排名第一，其次是三星，专利申请占18 ％，ASML公司占11％，排名第三。进一步下跌的是，韩国的S＆amp; STech占85，台积电（TSMC）占6％，SK海力士（SK Hynix）占1％。就具体技术项目而言，工艺技术专利申请量占32％，曝光设备技术专利申请量占31％，掩模技术专利申请量占28％，其他专利申请量占9％。在工艺技术领域，三星电子占39％，台积电占15％。在光罩领域，韩国的S＆amp; S Technology占28％，日本的Hoya占15％，韩国的Hanyang University占10％，日本的Asahi Glass占10％，三星电子占9％。负责编辑AJX